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高純鈦靶 真空鍍膜濺射鈦靶塊

材質(zhì):TA0, TAl, TA2, GRl, GR2

執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn): GB/T 2695-1996 , ASTM B348-97

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發(fā)布日期: 2021-02-19 14:55:16

全國熱線: 0917-3396777

詳細(xì)描述 / Detailed description

名稱:鈦靶材、鈦多弧靶、鈦平面靶、鈦旋轉(zhuǎn)靶

牌號: TA0, TAl, TA2, GRl, GR2

執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):符合GB/T 2695-1996 , ASTM B348-97

用途:用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射踱膜、工件表面涂層,玻璃踱膜工業(yè)等。

寶雞市中揚金屬材料有限公司專業(yè)生產(chǎn)真空鍍膜用的各種鈦靶、鈦圓靶、鈦管靶、鈦餅靶、平面靶、鈦鋁靶ta1、ta2、tc4材質(zhì),規(guī)格可根據(jù)廠家要求制定, 純度可達99.9%,鍍膜應(yīng)用中成膜均勻,膜層耐腐蝕耐摩性好,交貨及時,保證質(zhì)量,價格優(yōu)惠.歡迎來電咨詢。

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