平板顯示器制造用鈦靶材?是以高純度鈦（≥99.95%）或鈦合金（如鈦-鋁/銅）為材質(zhì)?，通過真空熔煉和精密加工制成的高致密度（＞99%）、低雜質(zhì)（Fe/Si/O＜100ppm）濺射材料?，具有優(yōu)異導(dǎo)電性、熱穩(wěn)定性及晶粒均勻性（晶粒度＜50μm）?，適配旋轉(zhuǎn)/固定濺射設(shè)備，廣泛應(yīng)用于LCD、OLED等顯示面板的透明導(dǎo)電層、金屬電極及柔性封裝膜層的沉積?。以下是中揚(yáng)金屬針對平板顯示器制造用鈦靶材的詳細(xì)介紹：
一、鈦靶材在平板顯示器中的定義
| 項(xiàng)目 | 描述 |
| 定義 | 鈦靶材是由高純度鈦或鈦合金制成的平板或旋轉(zhuǎn)濺射源，通過物理氣相沉積（PVD）工藝形成透明導(dǎo)電層、光學(xué)薄膜或電極，用于LCD、OLED、Micro-LED等顯示面板制造。 |
| 核心用途 | 透明導(dǎo)電氧化物（TCO）層、光調(diào)節(jié)層、電極及抗反射涂層的核心成膜材料。 |
| 形態(tài)特征 | 尺寸：長邊1000-3000mm（適配G8.5-G10.5代線）、厚度10-30mm；表面粗糙度≤0.05μm（Ra）。 |
二、常用材質(zhì)與成分
| 分類 | 成分與純度 | 適用場景 |
| 純鈦靶（4N） | Ti≥99.99%，雜質(zhì)總量≤500ppm | 基礎(chǔ)電極層、粘附層（如OLED陽極） |
| 鈦合金靶 | Ti-Al（Al 10-30%）、Ti-Si（Si 5-15%） | 透明導(dǎo)電層（ITO替代）、高折射率光學(xué)薄膜（TiO?） |
| 反應(yīng)濺射靶 | Ti-Mo（Mo 5-10%）、Ti-W（W 5-10%） | 柔性顯示電極（低電阻、高柔韌性） |
| 復(fù)合靶材 | Ti-Ag（Ag 1-5%）、Ti-Cu（Cu 3-8%） | 高反射率背板（Mini-LED/Micro-LED） |
三、性能特點(diǎn)
| 性能指標(biāo) | 具體表現(xiàn) |
| 透光性 | Ti-Al合金靶濺射薄膜可見光透過率≥85%（波長550nm），電阻率≤5×10??Ω·cm（優(yōu)于傳統(tǒng)ITO）。 |
| 均勻性 | 大尺寸靶材（3000mm）膜厚不均勻度≤3%（G10.5代線要求）。 |
| 柔韌性 | 鈦-鉬合金靶薄膜彎折10?次（R=3mm）電阻變化≤5%，適配柔性O(shè)LED折疊屏。 |
| 熱穩(wěn)定性 | 高溫（400℃）退火后無龜裂，與玻璃/PI基板熱膨脹系數(shù)匹配（CTE 8-9×10??/℃）。 |
| 環(huán)保性 | 無銦（In-Free）替代ITO，解決銦資源稀缺與毒性問題。 |
四、執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)
| 標(biāo)準(zhǔn)類型 | 標(biāo)準(zhǔn)編號(hào) | 覆蓋內(nèi)容 |
| 國際標(biāo)準(zhǔn) | SEMI F72-1101 | 顯示面板用鈦靶材表面質(zhì)量與潔凈度規(guī)范 |
| 行業(yè)規(guī)范 | ASTM F1710 | 透明導(dǎo)電薄膜用鈦合金靶材光電性能測試方法 |
| 中國國標(biāo) | GB/T 3620-2016 | 鈦靶材尺寸公差與晶粒取向要求（適配G8.5以上世代線） |
| 特殊規(guī)范 | JEITA ED-4706 | 顯示器件用鈦基薄膜機(jī)械與光學(xué)特性標(biāo)準(zhǔn) |
五、加工工藝與關(guān)鍵技術(shù)
| 工藝環(huán)節(jié) | 關(guān)鍵技術(shù) |
| 熔煉提純 | 電子束冷床爐（EBCHM）提純至4N級(jí)，控制氧含量≤200ppm。 |
| 軋制與退火 | 多向熱軋（交叉軋制率≥80%）優(yōu)化織構(gòu)，真空退火（750℃/6h）消除內(nèi)應(yīng)力。 |
| 精密加工 | 超長行程磨床（直線度≤0.01mm/m），表面鏡面拋光（Ra≤0.02μm）。 |
| 綁定技術(shù) | 爆炸焊接（Titanium-Clad）將鈦靶與銅背板結(jié)合，熱導(dǎo)率≥200W/m·K。 |
| 潔凈包裝 | 無塵室（Class 10）真空封裝，顆粒污染控制（≥0.3μm顆粒≤10個(gè)/m2）。 |
六、具體應(yīng)用領(lǐng)域
| 應(yīng)用場景 | 薄膜功能 | 靶材類型 | 性能要求 |
| LCD面板 | ITO替代透明電極（Ti-Al-O） | Ti-Al合金靶+反應(yīng)濺射（O?） | 方阻≤10Ω/□，透過率≥88% |
| OLED陽極 | 陽極粘附層（Ti/TiN） | 高純鈦靶+反應(yīng)濺射（N?） | 厚度均勻性≤2%，粗糙度Ra≤1nm |
| 量子點(diǎn)顯示 | 高折射率封裝層（TiO?） | 純鈦靶+反應(yīng)濺射（O?） | 折射率≥2.4（550nm），無針孔 |
| Mini-LED | 反射層（Ti-Ag/Ti-Cu） | Ti-Ag復(fù)合靶 | 反射率≥95%（450-650nm） |
| 柔性顯示 | 可彎折電極（Ti-Mo） | Ti-Mo合金靶 | 彎折壽命＞20萬次（R=1mm） |
七、與其他靶材的對比分析
| 對比項(xiàng) | 鈦靶材（Ti-Al） | ITO靶材（In?O?-SnO?） | 銀靶材（Ag） |
| 導(dǎo)電性 | 方阻5-10Ω/□ | 5-15Ω/□ | 0.5-1Ω/□ |
| 透光性 | 85-90% | 85-90% | 反射層（不透明） |
| 成本 | 中（鈦資源豐富） | 高（銦資源稀缺） | 極高（銀價(jià)波動(dòng)大） |
| 柔韌性 | 優(yōu)（彎折無裂紋） | 差（脆性大） | 優(yōu)（延展性好） |
| 環(huán)保性 | 無銦、無毒 | 含銦（回收難） | 需防硫化（易發(fā)黑） |
八、未來發(fā)展新方向
| 方向 | 技術(shù)突破 | 潛在應(yīng)用 |
| 超大尺寸靶材 | 開發(fā)G11代線（3370mm×2940mm）鈦靶一體成型技術(shù) | 降低65英寸以上8K面板制造成本 |
| 納米結(jié)構(gòu)靶 | 納米晶鈦合金靶（晶?！?0nm）提升薄膜致密度與導(dǎo)電性 | 超高清Micro-LED巨量轉(zhuǎn)移電極 |
| 柔性適配 | 鈦-石墨烯復(fù)合靶（厚度≤0.1mm）實(shí)現(xiàn)卷對卷（R2R）濺射工藝 | 可折疊/可拉伸顯示器件 |
| 光學(xué)定制化 | 梯度成分鈦靶（Al含量漸變）實(shí)現(xiàn)寬光譜減反射（400-800nm） | AR/VR透鏡抗反射涂層 |
| 綠色制造 | 鈦靶廢料電解回收技術(shù)（回收率＞95%），降低碳足跡 | 滿足歐盟RoHS/REACH環(huán)保要求 |
| 智能化監(jiān)控 | 濺射過程AI實(shí)時(shí)調(diào)控（等離子體光譜分析+膜厚反饋） | 零缺陷薄膜連續(xù)生產(chǎn) |
總結(jié)
平板顯示器制造用鈦靶材是推動(dòng)顯示技術(shù)革新的關(guān)鍵材料，其核心價(jià)值在于“高透、低阻、柔韌、環(huán)保”四位一體性能。未來需聚焦：
超大化與柔性化：適配G11+代線與柔性顯示需求；
光電性能極限：開發(fā)可見光-近紅外全波段調(diào)控的鈦基薄膜；
循環(huán)經(jīng)濟(jì)：構(gòu)建鈦靶材“開采-制造-回收”閉環(huán)，解決資源與成本瓶頸。
